武汉鑫融(图)|ATO靶材|ATO

各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。ATO。

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。分类

碲99.99%-99.999%-99.9999%-99.99999%

镉 99.999%-99.9999%-99.99999%

锌 99.999%-99.9999%-99.99999%

硒 99.99%-99.999%-99.9999%

铟 99.999%-99.9999%

锑 99.99%-99.999%

铋 99.999%-99.9999%

锗 99.999%-99.9999%

镓 99.99%-99.999%

产品规格:氧化铟靶

1.产品主要用途

磁控溅射制备TCO透明导电膜。

2.产品的物理及化学特性

2.1 化学式：In2O3

2.2 晶粒度：5~15μm

2.3相对密度：≥95%

2.4纯    度：≥99.99%

3.产品检测方法

3.1纯度：ICP—AES分析测试杂质含量；

硒化锌99.99%-99.999%

硒化锡99.99%-99.999%

硫化锌99.99%-99.999%

硫化锡99.99%-99.999%

硫化铜 99.99%-99.999%

硫化镉 99.99%-99.999%

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