靶材|靶材IWO|武汉鑫融(优质商家)

产品规格:铟.锡氧化物（ITO）旋转靶

1.产品主要用途

真空磁控溅射制备ITO导电玻璃及柔性ITO导电膜

2.1 化学式：In2O3/SnO2

2.2外    观：黑色管状陶瓷

2.3纯    度：≥99.99%

2.4 晶粒度：5~15μm

2.5相对密度：≥99.5 %

2.6 电阻率：<1.2×10-4Ω·cm

2.7热胀系数：5.8×10-6K-1

3.产品检测方法

3.1晶粒度：扫描电镜（SEM）观察；

3.2纯度：ICP—AES分析测试杂质含量；

3.3 密度：排水法；

公司概况

武汉鑫融新材料有限公司是一家专注高端高纯金属材料研发、生产的科技公司，靶材IWO，我们具有十年研发生产经验，目前公司客户遍布中国、美国、英国、澳大利亚、法国、**、日本、韩国等26个国家。

公司拥有完整的研发、生产、销售、服务体系，是国内高端高纯金属材料行业出货量大的企业之一。武汉鑫融新材料有限公司通过不断提升的综合实力，已成功跻身高端高纯金属材料国际主流供应商。

金属靶材是用于溅射镀膜：

通常将欲沉积的材料制成板材──靶，靶材，固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上，距靶几厘米。系统抽至高真空后充入 10～1帕的气体（通常为氩气），在阴极和阳极间加几千伏电压，ITO靶材，两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子，其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。