靶材、武汉鑫融、靶材IZO

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，2013年的蒸发镀膜方式，其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域。

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，靶材，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

产品规格:铟.锡氧化物（ITO）旋转靶

1.产品主要用途

真空磁控溅射制备ITO导电玻璃及柔性ITO导电膜

2.1 化学式：In2O3/SnO2

2.2外    观：黑色管状陶瓷

2.3纯    度：≥99.99%

2.4 晶粒度：5~15μm

2.5相对密度：≥99.5 %

2.6 电阻率：<1.2×10-4Ω·cm

2.7热胀系数：5.8×10-6K-1

3.产品检测方法

3.1晶粒度：扫描电镜（SEM）观察；

3.2纯度：ICP—AES分析测试杂质含量；

3.3 密度：排水法；

公司概况

武汉鑫融新材料有限公司是一家专注高端高纯金属材料研发、生产的科技公司，我们具有十年研发生产经验，ITO靶材，目前公司客户遍布中国、美国、英国、澳大利亚、法国、**、日本、韩国等26个国家。

公司拥有完整的研发、生产、销售、服务体系，是国内高端高纯金属材料行业出货量大的企业之一。武汉鑫融新材料有限公司通过不断提升的综合实力，已成功跻身高端高纯金属材料国际主流供应商。