靶材ITO|ITO|武汉鑫融(查看)

各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，ITO靶材，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。分类

碲99.99%-99.999%-99.9999%-99.99999%

镉 99.999%-99.9999%-99.99999%

锌 99.999%-99.9999%-99.99999%

硒 99.99%-99.999%-99.9999%

铟 99.999%-99.9999%

锑 99.99%-99.999%

铋 99.999%-99.9999%

锗 99.999%-99.9999%

镓 99.99%-99.999%

镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，ITO，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。