粉体ITO_ITO_武汉鑫融

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，ITO圆靶，合金，陶瓷，ITO，硼化物等。

氧化铟锡99.99%-99.999%

二氧化碲99.99%-99.999%

二氧化锡99.99%-99.999%

二氧化硒99.99%-99.999%

三氧化二镓99.99%-99.999%

三氧化二锑99.99%-99.999%

三氧化二铋 99.999%-99.9999%

三氧化二铟 99.999%-99.9999%

分类

根据形状可分为长靶，方靶，圆靶，异型靶

根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等

根据应用领域分为微电**材、磁记录靶材、光碟靶材、**靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材